Utilizando la técnica PAPVD (Plasma Assisted Physical Vapor Deposition) por arco pulsado se crecieron películas delgadas de ZnO sobre sustratos de vidrio. Las películas fueron crecidas variando el voltaje de la descarga, la presión del gas y el número de descargas. Las propiedades estructurales tales como: cristalinidad, microestructura y rugosidad superficial fueron investigadas por Difracción de Rayos X, Microscopía Electrónica de Barrido en Ambiente y Microscopía de Fuerza Atómica. Se encontró que el material depositado es efectivamente ZnO, con una estructura cristalina hexagonal, una orientación preferencial en la dirección (002), alta textura cristalográfica, parámetros de red promedio de a = 3,250495 Å y c =5,21608 Å, espesores con valores del orden de los cientos de nanómetros, tamaño de grano promedio del orden de 0,529 mm y rugosidad promedio de 98,6 Å, además, se detectó la presencia de irregularidades, grietas y microgotas en la superficie de las mismas.
Using the PAPVD (Plasma Assisted Physical Vapor Deposition) technique by pulsed arc, were grown films of ZnO on glasses substrates. The films were grown by varying the voltage of the discharge, the pressure of the gas and the number of discharges. The structural properties, such as crystallinity, microstructure, and surface roughness of ZnO films, were investigated using X Ray Diffraction (XRD), Scanning Electron Microscopy (SEM) and Atomic Force Microscopy (AFM). It was found that the material deposited is effectivitly ZnO, with a hexagonal crystalline structure, with a preferential orientation in planes (002), high crystallographic texture, parameters of net average of a0=3,250495 Å and c0=5,21608 Å, thickness of the films finding values in the order of hundred of nanometers, size of grain average of 0,529 mm, and roughness average of 98,6 Å. Also it was detected the presence of irregularities, cracks and micro-droplets in the surface of the films.